Gas NF3 de trifluoruro de nitrógeno, gases especiales para el grabado al plasma de obleas de silicio incoloras

Nitrogen Trifluoride NF3 Gas , Specialty Gases For Plasma Etching Of Silicon Wafers Colorless

Datos del producto:

Lugar de origen:	China
Nombre de la marca:	TYHJ
Certificación:	ISO Certificate
Número de modelo:	NF3

Pago y Envío Términos:

Cantidad de orden mínima:	200pcs
Precio:	negotiable
Detalles de empaquetado:	1. cilindro 44Ltr que llena del líquido de 20Kg NF3. 2. cilindro 440L que llena del líquido de 200
Tiempo de entrega:	15-30 días laborables después del recibo del depósito
Condiciones de pago:	L/C, T/T, D/A, D/P, Western Union
Capacidad de la fuente:	10000KG por mes

Contacto

Descripción detallada del producto

CAS N °:	7783-54-2	N º EINECS:	232-007-1
La O.N.U no.:	UN2451	Pureza:	99,995%
Clase del punto:	2,2	Apariencia:	DESCOLORIDO
Alta luz:	advanced specialty gases , purity plus specialty gases

Gas NF3 de trifluoruro de nitrógeno, gases especiales para el grabado al plasma de obleas de silicio incoloras

El trifluoruro de nitrógeno es el compuesto inorgánico con la fórmula NF3. Este compuesto de nitrógeno y flúor es un gas incoloro, inodoro y no inflamable. Encuentra un uso creciente como un grabador en microelectrónica. El trifluoruro de nitrógeno es un gas de efecto invernadero extremadamente fuerte.

Presupuesto

Nº CAS: 7783-54-2

EINECS No .: 232-007-1

Núm. ONU: UN2451

Pureza: 99.995%

Clase de puntos: 2.2

Apariencia: Incoloro

Grado Estándar: Grado Electrónico

Especificación	≥99.995%
CF4	≤40 ppm
N2	≤5 ppm
O2 + Ar	≤5 ppm
CO	≤5 ppm
CO2	/
N2O	/
SF6	≤2 ppm
H2O	≤1 ppm
HF	≤1 ppm

Aplicación tipica

Aguafuerte:

El trifluoruro de nitrógeno se utiliza en el grabado con plasma de las obleas de silicio.

NF3

Embalaje y Envío

Tamaño del paquete	Cilindro 44L	Cilindro 440Ltr	Tanque ISO
Peso neto de llenado / cilindro	20Kg	200Kg	/
CANTIDAD CARGADO EN CONTENEDOR 20'	200 Cyls	20 Cyls
Peso neto total	4 toneladas	4 toneladas
Peso de la tara del cilindro	50Kg	240Kg
Válvula	CGA / DISS640